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Spezielle Gase
Schwefeltetrafluorid (SF4)
EINECS-NR.: 232-013-4
CAS-NR.: 7783-60-0
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Lachgas (N2O)
Lachgas, auch Lachgas genannt, ist eine gefährliche Chemikalie mit der chemischen Formel N2O.Es ist ein farbloses, süß riechendes Gas.N2O ist ein Oxidationsmittel, das unter bestimmten Bedingungen die Verbrennung unterstützen kann, bei Raumtemperatur jedoch stabil ist und eine leicht anästhetische Wirkung hat., und kann Menschen zum Lachen bringen.
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Kohlenstofftetrafluorid (CF4)
Kohlenstofftetrafluorid, auch Tetrafluormethan genannt, ist bei normaler Temperatur und normalem Druck ein farbloses Gas, das in Wasser unlöslich ist.CF4-Gas ist derzeit das am häufigsten verwendete Plasmaätzgas in der Mikroelektronikindustrie.Es wird auch als Lasergas, kryogenes Kältemittel, Lösungsmittel, Schmiermittel, Isoliermaterial und Kühlmittel für Infrarot-Detektorröhren verwendet.
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Sulfurylfluorid (F2O2S)
Sulfurylfluorid SO2F2, ein giftiges Gas, wird hauptsächlich als Insektizid eingesetzt.Da Sulfurylfluorid die Eigenschaften einer starken Diffusion und Durchlässigkeit, eines Breitbandinsektizids, einer niedrigen Dosierung, einer geringen Restmenge, einer schnellen Insektizidgeschwindigkeit, einer kurzen Gasdispersionszeit, einer bequemen Verwendung bei niedriger Temperatur, keiner Auswirkung auf die Keimrate und einer geringen Toxizität aufweist, umso mehr Es wird immer häufiger in Lagerhäusern, Frachtschiffen, Gebäuden, Staudämmen, zur Termitenprävention usw. eingesetzt.
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Silan (SiH4)
Silan SiH4 ist bei normaler Temperatur und normalem Druck ein farbloses, giftiges und sehr aktives Druckgas.Silan wird häufig beim epitaktischen Wachstum von Silizium, Rohstoffen für Polysilizium, Siliziumoxid, Siliziumnitrid usw., Solarzellen, optischen Fasern, der Herstellung von farbigem Glas und der chemischen Gasphasenabscheidung verwendet.
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Octafluorcyclobutan (C4F8)
Octafluorcyclobutan C4F8, Gasreinheit: 99,999 %, wird häufig als Treibmittel für Lebensmittelaerosole und mittleres Gas verwendet.Es wird häufig im Halbleiter-PECVD-Verfahren (Plasma Enhance. Chemical Vapour Deposition) verwendet. C4F8 wird als Ersatz für CF4 oder C2F6 verwendet und als Reinigungsgas und Ätzgas für Halbleiterprozesse verwendet.
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Stickoxid (NO)
Stickoxidgas ist eine Stickstoffverbindung mit der chemischen Formel NO.Es ist ein farbloses, geruchloses, giftiges Gas, das in Wasser unlöslich ist.Stickoxid ist chemisch sehr reaktiv und reagiert mit Sauerstoff unter Bildung des Schadgases Stickstoffdioxid (NO₂).
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Chlorwasserstoff (HCl)
Chlorwasserstoff HCL Gas ist ein farbloses Gas mit einem stechenden Geruch.Seine wässrige Lösung heißt Salzsäure, auch Salzsäure genannt.Chlorwasserstoff wird hauptsächlich zur Herstellung von Farbstoffen, Gewürzen, Medikamenten, verschiedenen Chloriden und Korrosionsinhibitoren verwendet.
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Hexafluorpropylen (C3F6)
Hexafluorpropylen, chemische Formel: C3F6, ist bei normaler Temperatur und normalem Druck ein farbloses Gas.Es wird hauptsächlich zur Herstellung verschiedener fluorhaltiger Feinchemikalien, pharmazeutischer Zwischenprodukte, Feuerlöschmittel usw. verwendet und kann auch zur Herstellung fluorhaltiger Polymermaterialien verwendet werden.
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Ammoniak (NH3)
Flüssiges Ammoniak/wasserfreies Ammoniak ist ein wichtiger chemischer Rohstoff mit vielfältigen Einsatzmöglichkeiten.Als Kältemittel kann flüssiges Ammoniak verwendet werden.Es wird hauptsächlich zur Herstellung von Salpetersäure, Harnstoff und anderen chemischen Düngemitteln verwendet und kann auch als Rohstoff für Medikamente und Pestizide verwendet werden.In der Verteidigungsindustrie wird es zur Herstellung von Treibstoffen für Raketen und Flugkörper verwendet.
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