Chlorwasserstoff (HCl)

Technische Parameter:

Chlorwasserstoff hat die chemische Formel HCl.Ein Chlorwasserstoffmolekül besteht aus einem Chloratom und einem Wasserstoffatom.Es ist ein farbloses Gas mit stechendem Geruch.Ätzendes, nicht brennbares Gas, reagiert nicht mit Wasser, ist aber in Wasser leicht löslich.Es ist oft in Form von Salzsäuredämpfen in der Luft vorhanden.Chlorwasserstoff ist in Äthanol und Äther leicht löslich und auch in vielen anderen organischen Substanzen löslich;sehr leicht wasserlöslich, bei 0°C kann 1 Volumen Wasser ca. 500 Volumen Chlorwasserstoff lösen.Seine wässrige Lösung ist allgemein als Salzsäure bekannt und sein wissenschaftlicher Name ist Salzsäure.Konzentrierte Salzsäure ist flüchtig.Chlorwasserstoff ist farblos mit einem Schmelzpunkt von -114,2 °C und einem Siedepunkt von -85 °C.Es verbrennt nicht an der Luft und ist thermisch stabil.Es zersetzt sich erst bei etwa 1500°C.Es hat einen erstickenden Geruch, reizt die oberen Atemwege stark und wirkt ätzend auf Augen, Haut und Schleimhäute.Die Dichte ist größer als die von Luft.Die chemischen Eigenschaften von trockenem Chlorwasserstoff sind sehr inaktiv.Alkali- und Erdalkalimetalle können in Chlorwasserstoff brennen, und wenn Natrium verbrennt, gibt es eine hellgelbe Flamme ab.Chlorwasserstoff wird in der petrochemischen Industrie verwendet, um die Wirksamkeit und Regeneration von Katalysatoren zu fördern und die Viskosität von Erdöl zu erhöhen;es kann verwendet werden, um Chlorsulfonsäure, synthetischen Gummi usw. herzustellen;es kann auch zur Herstellung von Farbstoffen, Duftstoffen, Wirkstoffsynthese, verschiedenen Chloriden und Korrosionsinhibitoren sowie zum Reinigen, Beizen, Galvanisieren von Metall, Gerben, Veredeln oder Herstellen von Hartmetall verwendet werden.Hochreines Chlorwasserstoffgas wird häufig bei epitaktischen Siliziumwachstums-, Dampfphasenpolier-, Getter-, Ätz- und Reinigungsprozessen in der Elektronikindustrie verwendet.

Anwendung:

①Material:

Der größte Teil des Chlorwasserstoffs wird bei der Herstellung von Salzsäure verwendet.Es ist auch ein wichtiges Reagens bei anderen industriellen chemischen Umwandlungen.

②Halbleiter:

In der Halbleiterindustrie wird es sowohl zum Ätzen von Halbleiterkristallen als auch zur Reinigung von Silizium über Trichlorsilan (SiHCl3) verwendet.

③Labor:

Im Labor sind wasserfreie Formen des Gases besonders nützlich, um Lewis-Säuren auf Chloridbasis zu erzeugen, die absolut trocken sein müssen, damit ihre Lewis-Stellen funktionieren.

Normales Paket:

Vorteile:

①Hochreine, neueste Einrichtung;

②ISO-Zertifikat Hersteller;

③Schnelle Lieferung;

④Online-Analysesystem zur Qualitätskontrolle in jedem Schritt;

⑤Hohe Anforderungen und sorgfältiger Prozess für die Handhabung des Zylinders vor dem Befüllen;