Spezialgase
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Schwefeltetrafluorid (SF4)
EINECS-NR.: 232-013-4
CAS-NR.: 7783-60-0 -
Distickstoffmonoxid (N2O)
Distickstoffmonoxid, auch bekannt als Lachgas, ist eine gefährliche Chemikalie mit der chemischen Formel N₂O. Es ist ein farbloses, süßlich riechendes Gas. N₂O ist ein Oxidationsmittel, das unter bestimmten Bedingungen die Verbrennung fördern kann, aber bei Raumtemperatur stabil ist und eine leicht betäubende Wirkung hat. Es kann Menschen zum Lachen bringen. -
Kohlenstofftetrafluorid (CF4)
Tetrafluorkohlenstoff, auch bekannt als Tetrafluormethan, ist bei Normaltemperatur und -druck ein farbloses Gas, das in Wasser unlöslich ist. CF₄-Gas ist derzeit das am häufigsten verwendete Plasmaätzgas in der Mikroelektronikindustrie. Es wird außerdem als Lasergas, Kältemittel, Lösungsmittel, Schmierstoff, Isoliermaterial und Kühlmittel für Infrarotdetektorröhren eingesetzt. -
Sulfurylfluorid (F2O2S)
Sulfurylfluorid (SO₂F₂), ein giftiges Gas, wird hauptsächlich als Insektizid eingesetzt. Aufgrund seiner Eigenschaften wie starker Diffusion und Permeabilität, seines breiten Wirkungsspektrums, der geringen Dosierung, der niedrigen Rückstandsmenge, der schnellen Wirkungsgeschwindigkeit, der kurzen Gasdispersionszeit, der einfachen Anwendung bei niedrigen Temperaturen, der fehlenden Beeinträchtigung der Keimungsrate und der geringen Toxizität findet es zunehmend Anwendung in Lagerhallen, Frachtschiffen, Gebäuden, Staudämmen, zur Termitenbekämpfung usw. -
Silan (SiH4)
Silan (SiH₄) ist ein farbloses, giftiges und bei Normaltemperatur und -druck sehr reaktives Gas. Es findet breite Anwendung beim epitaxialen Wachstum von Silizium, als Rohstoff für Polysilizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid usw., in Solarzellen, optischen Fasern, der Herstellung von farbigem Glas und bei der chemischen Gasphasenabscheidung. -
Octafluorcyclobutan (C4F8)
Octafluorcyclobutan (C4F8) hat eine Reinheit von 99,999 % und wird häufig als Treibmittel und Trägergas in Lebensmittel-Aerosolen verwendet. Es findet auch Anwendung im PECVD-Verfahren (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) der Halbleiterindustrie und dient dort als Ersatz für CF4 oder C2F6. Zudem wird es als Reinigungs- und Ätzgas in Halbleiterprozessen eingesetzt. -
Stickstoffmonoxid (NO)
Stickstoffmonoxid ist eine Stickstoffverbindung mit der chemischen Formel NO. Es ist ein farbloses, geruchloses, giftiges Gas, das in Wasser unlöslich ist. Stickstoffmonoxid ist chemisch sehr reaktiv und reagiert mit Sauerstoff zu dem ätzenden Gas Stickstoffdioxid (NO₂). -
Chlorwasserstoff (HCl)
Chlorwasserstoff (HCl) ist ein farbloses Gas mit stechendem Geruch. Seine wässrige Lösung heißt Salzsäure (Salzsäure). Chlorwasserstoff wird hauptsächlich zur Herstellung von Farbstoffen, Gewürzen, Arzneimitteln, verschiedenen Chloriden und Korrosionsinhibitoren verwendet. -
Hexafluorpropylen (C3F6)
Hexafluorpropylen (chemische Formel: C₃F₆) ist bei Normaltemperatur und -druck ein farbloses Gas. Es wird hauptsächlich zur Herstellung verschiedener fluorhaltiger Feinchemikalien, pharmazeutischer Zwischenprodukte, Feuerlöschmittel usw. verwendet und kann auch zur Herstellung fluorhaltiger Polymermaterialien eingesetzt werden. -
Ammoniak (NH3)
Flüssiges Ammoniak (wasserfreies Ammoniak) ist ein wichtiger chemischer Rohstoff mit vielfältigen Anwendungsmöglichkeiten. Es dient als Kältemittel und wird hauptsächlich zur Herstellung von Salpetersäure, Harnstoff und anderen chemischen Düngemitteln verwendet. Darüber hinaus findet es Anwendung in der Arzneimittel- und Pflanzenschutzmittelproduktion. In der Verteidigungsindustrie wird es zur Herstellung von Treibstoffen für Raketen und Flugkörper eingesetzt.
