Häufige fluorhaltige spezielle elektronische Gase umfassenSchwefelhexafluorid (SF6), Tungsten Hexafluorid (WF6),Kohlenstoff Tetrafluorid (CF4), Trifluormethan (CHF3), Stickstofftrifluorid (NF3), Hexafluorethan (C2F6) und Octafluoropropan (C3F8).
Mit der Entwicklung der Nanotechnologie und der groß angelegten Entwicklung der Elektronikindustrie wird ihre Nachfrage von Tag zu Tag steigen. Stickstoff-Trifluorid als unverzichtbares und größtes spezielles elektronisches Gas bei der Herstellung und Verarbeitung von Panels und Halbleitern hat einen breiten Marktraum.
Als eine Art fluorhaltiger spezielles Gas,Stickstofftrifluorid (NF3)ist das elektronische Spezialgasprodukt mit der größten Marktkapazität. Es ist chemisch bei Raumtemperatur chemisch inert, aktiver als Sauerstoff bei hoher Temperatur, stabiler als Fluor und leicht zu handhaben. Stickstoff -Trifluorid wird hauptsächlich als Plasma -Ätzgas und Reaktionskammerreinigungsmittel verwendet und eignet sich für die Herstellungsfelder von Halbleiterchips, flache Bedienfelder, optische Fasern, Photovoltaikzellen usw.
Im Vergleich zu anderen fluorhaltigen elektronischen Gasen,,Stickstoff -Trifluoridhat die Vorteile einer schnellen Reaktion und hohen Effizienz. Insbesondere bei der Ätzen von Silizium-haltigen Materialien wie Siliziumnitrid weist sie eine hohe Ätzrate und Selektivität auf, wobei keine Rückstände auf der Oberfläche des geätzten Objekts bleiben. Es ist auch ein sehr gutes Reinigungsmittel und hat keine Verschmutzung an die Oberfläche, was den Anforderungen des Verarbeitungsprozesses entsprechen kann.
Postzeit: Sep-14-2024
