Lasergas wird in der Elektronikindustrie hauptsächlich für Laserglühen und Lithografie eingesetzt. Dank Innovationen bei Handybildschirmen und der Erweiterung der Anwendungsbereiche wird der Markt für Niedertemperatur-Polysilizium weiter wachsen, und das Laserglühen hat die Leistung von Dünnschichttransistoren (TFTs) deutlich verbessert. Von den in ArF-Excimerlasern zur Halbleiterfertigung verwendeten Gasen Neon, Fluor und Argon macht Neon über 96 % des Lasergasgemisches aus. Mit der Weiterentwicklung der Halbleitertechnologie hat der Einsatz von Excimerlasern zugenommen, und die Einführung der Doppelbelichtungstechnologie hat zu einem starken Anstieg der Nachfrage nach Neongas für ArF-Excimerlaser geführt. Durch die Förderung der Lokalisierung von Spezialgasen für die Elektronikindustrie werden inländische Hersteller künftig bessere Marktchancen haben.
Die Lithografiemaschine ist die Kernausrüstung der Halbleiterfertigung. Die Lithografie bestimmt die Größe der Transistoren. Die koordinierte Entwicklung der Lithografie-Wertschöpfungskette ist der Schlüssel zum Durchbruch der Lithografiemaschine. Die passenden Halbleitermaterialien wie Fotolack, Fotolithografiegas, Fotomaske sowie Beschichtungs- und Entwicklungsanlagen weisen einen hohen technologischen Gehalt auf. Das Lithografiegas erzeugt in der Lithografiemaschine den tiefen ultravioletten Laser. Unterschiedliche Lithografiegase erzeugen Lichtquellen mit unterschiedlichen Wellenlängen, die direkt die Auflösung der Lithografiemaschine beeinflussen – einen ihrer Kernpunkte. Im Jahr 2020 wurden weltweit 413 Lithografiemaschinen verkauft, davon 258 Einheiten (62 %) von ASML, 122 Einheiten (30 %) von Canon und 33 Einheiten (8 %) von Nikon.
Veröffentlichungsdatum: 15. Oktober 2021
