Günstige Preisliste für Spezialgase China Supply Electron/Semiconductor Grade 99,999 % Reinheit Kohlenstofftetrafluorid/Tetrafluormethan CF4-Gaspreis

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Technische Parameter

Kohlenstofftetrafluorid ist ein halogenierter Kohlenwasserstoff mit der chemischen Formel CF4. Es kann als halogenierter Kohlenwasserstoff, halogeniertes Methan, Perfluorkohlenstoff oder als anorganische Verbindung betrachtet werden. Kohlenstofftetrafluorid ist ein farb- und geruchloses Gas, unlöslich in Wasser, löslich in Benzol und Chloroform. Stabil bei normaler Temperatur und normalem Druck. Vermeiden Sie starke Oxidationsmittel sowie brennbare oder brennbare Materialien. Nicht brennbares Gas, der Innendruck des Behälters steigt bei starker Hitzeeinwirkung und es besteht die Gefahr von Rissen und Explosionen. Es ist chemisch stabil und nicht brennbar. Nur flüssiges Ammoniak-Natriummetall-Reagenz kann bei Raumtemperatur funktionieren. Kohlenstofftetrafluorid ist ein Gas, das den Treibhauseffekt verursacht. Es ist sehr stabil, kann lange Zeit in der Atmosphäre verbleiben und ist ein sehr starkes Treibhausgas. Kohlenstofftetrafluorid wird im Plasmaätzprozess verschiedener integrierter Schaltkreise verwendet. Es wird auch als Lasergas verwendet und in Niedertemperaturkältemitteln, Lösungsmitteln, Schmiermitteln, Isoliermaterialien und Kühlmitteln für Infrarotdetektoren verwendet. Es ist das am häufigsten verwendete Plasmaätzgas in der Mikroelektronikindustrie. Es handelt sich um eine Mischung aus hochreinem Tetrafluormethangas und hochreinem Tetrafluormethangas und hochreinem Sauerstoff. Es kann in großem Umfang in Silizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid und Phosphosilikatglas verwendet werden. Das Ätzen von Dünnschichtmaterialien wie Wolfram und Wolfram wird auch häufig bei der Oberflächenreinigung elektronischer Geräte, der Solarzellenproduktion, der Lasertechnologie, der Tieftemperaturkühlung, der Leckprüfung und als Reinigungsmittel bei der Herstellung gedruckter Schaltkreise eingesetzt. Wird als Niedertemperatur-Kältemittel und Plasma-Trockenätztechnologie für integrierte Schaltkreise verwendet. Vorsichtsmaßnahmen für die Lagerung: In einem kühlen, belüfteten Lagerhaus für nicht brennbare Gase lagern. Von Feuer und Wärmequellen fernhalten. Die Lagertemperatur sollte 30°C nicht überschreiten. Es sollte getrennt von leicht (brennbaren) Brennstoffen und Oxidationsmitteln gelagert werden und eine gemischte Lagerung ist zu vermeiden. Der Lagerbereich sollte mit Geräten zur Leckage-Notfallbehandlung ausgestattet sein.

Anwendung:

① Kältemittel:

Tetrafluormethan wird manchmal als Kältemittel für niedrige Temperaturen verwendet.

② Ätzen:

Es wird in der elektronischen Mikrofertigung allein oder in Kombination mit Sauerstoff als Plasmaätzmittel für Silizium, Siliziumdioxid und Siliziumnitrid verwendet.

Normales Paket:

Vorteil:

①Hohe Reinheit, modernste Anlage;

②ISO-Zertifikathersteller;

③Schnelle Lieferung;

④Online-Analysesystem zur Qualitätskontrolle in jedem Schritt;

⑤Hohe Anforderungen und sorgfältiger Prozess bei der Handhabung des Zylinders vor dem Befüllen;