Kohlenstofftetrafluorid (CF4)

Kurzbeschreibung:

Tetrafluorkohlenstoff, auch bekannt als Tetrafluormethan, ist bei Normaltemperatur und -druck ein farbloses Gas, das in Wasser unlöslich ist. CF₄-Gas ist derzeit das am häufigsten verwendete Plasmaätzgas in der Mikroelektronikindustrie. Es wird außerdem als Lasergas, Kältemittel, Lösungsmittel, Schmierstoff, Isoliermaterial und Kühlmittel für Infrarotdetektorröhren eingesetzt.


Produktdetails

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Technische Parameter

Spezifikation 99,999 %
Sauerstoff + Argon ≤1 ppm
Stickstoff ≤4 ppm
Feuchtigkeit (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halogencarbine ≤1 ppm
Gesamtverunreinigungen ≤10 ppm

Tetrafluorkohlenstoff (CF₄) ist ein halogenierter Kohlenwasserstoff mit der chemischen Formel CF₄. Er kann als halogenierter Kohlenwasserstoff, halogeniertes Methan, Perfluorkohlenwasserstoff oder als anorganische Verbindung betrachtet werden. Tetrafluorkohlenstoff ist ein farb- und geruchloses Gas, unlöslich in Wasser, aber löslich in Benzol und Chloroform. Er ist unter Normalbedingungen stabil. Starke Oxidationsmittel sowie brennbare oder entzündliche Stoffe sind zu vermeiden. Tetrafluorkohlenstoff ist nicht brennbar. Bei starker Hitzeeinwirkung steigt der Innendruck des Behälters, wodurch die Gefahr von Cracken und Explosionen besteht. Er ist chemisch stabil und nicht entzündlich. Nur flüssiges Ammoniak-Natrium-Metall-Reagenz ist bei Raumtemperatur anwendbar. Tetrafluorkohlenstoff ist ein Treibhausgas. Er ist sehr stabil, kann lange in der Atmosphäre verbleiben und ist ein sehr starkes Treibhausgas. Tetrafluorkohlenstoff wird beim Plasmaätzen verschiedener integrierter Schaltungen verwendet. Es wird auch als Lasergas sowie in Tieftemperatur-Kältemitteln, Lösungsmitteln, Schmierstoffen, Isoliermaterialien und Kühlmitteln für Infrarotdetektoren eingesetzt. Es ist das am häufigsten verwendete Plasmaätzgas in der Mikroelektronikindustrie. Es handelt sich um ein Gemisch aus hochreinem Tetrafluormethan und hochreinem Sauerstoff. Es findet breite Anwendung bei Silizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid und Phosphosilikatglas. Das Ätzen von Dünnschichtmaterialien wie Wolfram und Wolfram wird ebenfalls häufig zur Oberflächenreinigung elektronischer Bauteile, in der Solarzellenproduktion, in der Lasertechnologie, in der Tieftemperaturkühlung, bei der Dichtigkeitsprüfung und als Reinigungsmittel in der Leiterplattenfertigung eingesetzt. Es dient als Tieftemperatur-Kältemittel und wird in der Plasma-Trockenätztechnologie für integrierte Schaltungen verwendet. Lagerhinweise: In einem kühlen, gut belüfteten Lager für nicht brennbare Gase lagern. Von Feuer und Wärmequellen fernhalten. Die Lagertemperatur sollte 30 °C nicht überschreiten. Es sollte getrennt von leicht entzündlichen Stoffen und Oxidationsmitteln gelagert werden; eine Mischlagerung ist zu vermeiden. Der Lagerbereich muss mit einer Notfallausrüstung zur Behandlung von Leckagen ausgestattet sein.

Anwendung:

① Kältemittel:

Tetrafluormethan wird gelegentlich als Kältemittel für niedrige Temperaturen verwendet.

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② Ätzung:

Es wird in der Elektronik-Mikrofertigung allein oder in Kombination mit Sauerstoff als Plasmaätzmittel für Silizium, Siliziumdioxid und Siliziumnitrid verwendet.

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Standardverpackung:

Produkt KohlenstofftetrafluoridCF4
Verpackungsgröße 40-Liter-Zylinder 50-Liter-Zylinder  
Füllnettogewicht/Zylinder 30 kg 38 kg  
In einen 20-Fuß-Container verladene Menge 250 Zylinder 250 Zylinder
Gesamtnettogewicht 7,5 Tonnen 9,5 Tonnen
Zylinder-Taragewicht 50 kg 55 kg
Ventil CGA 580

Vorteil:

①Hohe Reinheit, modernste Anlage;

②ISO-zertifizierter Hersteller;

③Schnelle Lieferung;

④ Online-Analysesystem zur Qualitätskontrolle in jedem Arbeitsschritt;

⑤Hohe Anforderungen und sorgfältige Vorgehensweise bei der Handhabung der Zylinder vor der Befüllung;


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