2019 gutes Ätzgas 99,999% Reinheit CF4 Tetrafluormethan CF4 Gas

Unser Enterprise zielt darauf ab, treu zu operieren, all unseren Prospekten zu dienen und in neuer Technologie und neuer Maschine häufig für das Ätzen von Gas mit 99,99% der Reinheit von 2019 zu arbeiten.
Unser Unternehmen zielt darauf ab, treu zu operieren, all unseren Aussichten zu dienen und in neuer Technologie und neuer Maschine häufig zu arbeitenChina CF4 Gas und Kohlenstoff -TetrafluoridgasDie Zufriedenheit des Kunden ist immer unsere Suche. Wert für Kunden ist immer unsere Pflicht, eine langfristige, gegenseitige, nützliche Geschäftsbeziehung ist das, wofür wir tun. Wir sind ein absolut zuverlässiger Partner in Ihrem Fall in China. Natürlich können auch andere Dienste wie Beratung angeboten werden.

Technische Parameter

Kohlenstofftetrafluorid ist ein halogeniertes Kohlenwasserstoff mit der chemischen Formel CF4. Es kann als halogeniertes Kohlenwasserstoff, halogeniertes Methan, Perfluorkohlenstoff oder als anorganische Verbindung angesehen werden. Carbon Tetrafluorid ist ein farbloses und geruchloses Gas, das in Wasser unlöslich ist und in Benzol und Chloroform löslich ist. Stabil unter normaler Temperatur und Druck, vermeiden Sie starke Oxidationsmittel, brennbare oder brennbare Materialien. Nicht brennbares Gas, der Innendruck des Behälters steigt, wenn es einer hohen Hitze ausgesetzt ist, und es besteht die Gefahr von Rissen und Explosion. Es ist chemisch stabil und nicht flammbar. Nur flüssiges Ammoniak-Sodium-Metall-Metallreagenz kann bei Raumtemperatur funktionieren. Kohlenstoff -Tetrafluorid ist ein Gas, das den Treibhauseffekt verursacht. Es ist sehr stabil, kann lange in der Atmosphäre bleiben und ist ein sehr starkes Treibhausgas. Kohlenstoff -Tetrafluorid wird im Plasma -Ätzprozess verschiedener integrierter Schaltungen verwendet. Es wird auch als Lasergas verwendet und in Niedertemperaturkältemitteln, Lösungsmitteln, Schmiermitteln, Isoliermaterialien und Kühlmitteln für Infrarotdetektoren verwendet. Es ist das am häufigsten verwendete Plasma -Ätzgas in der Mikroelektronikindustrie. Es ist eine Mischung aus Tetrafluormethan-Hochpalperngas und Tetrafluormethan-Hochpuritätsgas und hoher Purity-Sauerstoff. Es kann häufig in Silizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid und Phosphosposilikatglas verwendet werden. Das Ätzen von dünnen Filmmaterialien wie Wolfram und Wolfram wird auch häufig bei der Oberflächenreinigung elektronischer Geräte, Solarzellenproduktion, Lasertechnologie, niedriger Temperaturkühlung, Leckinspektion und Reinigungsmittel in gedruckter Schaltkreise verwendet. Wird als Trockenästechnologie mit niedriger Temperaturkältemittel und Plasma für integrierte Schaltkreise verwendet. Vorsichtsmaßnahmen für die Lagerung: Speichern Sie in einem kühlen, belüfteten, nicht brennbaren Gashaus. Halten Sie sich von Feuer- und Wärmequellen fern. Die Lagertemperatur sollte 30 ° C nicht überschreiten. Es sollte getrennt von leicht (brennbarer) Brennstoffen und Oxidationsmitteln gespeichert werden und vermeiden eine gemischte Lagerung. Der Speicherbereich sollte mit Leckage -Notfallbehandlungsgeräten ausgestattet sein.

Anwendung:

① Kältemittel:

Tetrafluormethan wird manchmal als Kältemittel mit niedriger Temperatur verwendet.

② Ätzen:

Es wird allein oder in Kombination mit Sauerstoff als Plasma -Ätzmittel für Silizium, Siliziumdioxid und Siliziumnitrid in der Elektronikmikrofabrikation verwendet.

Normales Paket:

Vorteil:

①High Purity, neueste Einrichtung;

②iso -Zertifikathersteller;

③Fast Lieferung;

④on-line-Analysesystem zur Qualitätskontrolle in jedem Schritt;

⑤Höhe Anforderung und sorgfältiger Prozess zum Umgang mit Zylinder vor dem Füllen;Unser Enterprise zielt darauf ab, treu zu operieren, all unseren Prospekten zu dienen und in neuer Technologie und neuer Maschine häufig für das Ätzen von Gas mit 99,99% der Reinheit von 2019 zu arbeiten.
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